简要说明

MKS AX7670-06-R 是一款由 MKS Instruments 生产的远程等离子体源（Remote Plasma Source, RPS），专为半导体制造中的等离子体增强化学气相沉积（PECVD）工艺设计。

应用场景

在半导体制造领域，等离子体增强化学气相沉积（PECVD）工艺对射频发生器的稳定性和功率输出有极高要求。MKS AX7670-06-R 凭借其高功率输出和频率范围，能够有效提升等离子体工艺的稳定性和效率。例如，在某半导体制造工厂中，工程师们通过安装 MKS AX7670-06-R，成功地提高了等离子体工艺的稳定性和效率，减少了设备停机时间，同时降低了运维成本。

核心参数速览

主要参数数值/说明
产品型号MKS AX7670-06-R
制造商MKS Instruments
产品类别远程等离子体源（RPS）
额定流量3.0 slm NF3
输入电压200-208V
频率50/60Hz
适用范围半导体制造、平板显示制造、太阳能电池制造
通信接口RS-232、DeviceNet、Ethernet

技术原理与创新价值

  • 创新点1：MKS AX7670-06-R 采用先进的射频技术，能够提供稳定的功率输出，适用于高功率等离子体应用。
  • 创新点2：该射频发生器支持多种通信协议，包括RS-232、DeviceNet和Ethernet，便于与其他设备集成。
  • 创新点3：具备高可靠性和抗干扰能力，能够在恶劣的工业环境中稳定运行。

应用案例与行业价值

在一家半导体制造工厂的等离子体增强化学气相沉积（PECVD）工艺中，MKS AX7670-06-R 被成功应用于设备升级。通过安装该射频发生器，工厂显著提高了生产效率，减少了因设备故障导致的停机时间，同时降低了运维成本。用户对该射频发生器的性能和可靠性给予了高度评价，认为它为工厂的自动化升级提供了强有力的支持。

相关产品组合方案

  • MKS AX7670-60：类似型号，适用于类似工艺。
  • MKS AX7685-33：射频发生器，适用于高功率等离子体应用。

安装维护与全周期支持

安装准备：在安装 MKS AX7670-06-R 之前，请确保设备的电源已关闭，并检查安装环境是否符合工作温度和湿度要求。建议在安装过程中遵循模块的安装手册，确保接地良好，以避免电磁干扰。
维护建议：为确保 MKS AX7670-06-R 的长期稳定运行，建议定期检查模块的连接线缆和接口，确保其牢固无松动。同时，定期清理模块表面的灰尘，避免因积灰导致散热不良。如果在使用过程中遇到问题，建议及时联系技术支持团队，以获得专业的帮助。
全周期支持：MKS Instruments 为 MKS AX7670-06-R 提供全面的技术支持和售后服务。从安装调试到日常维护，再到故障处理和备件更换，我们的专业团队将全程为您提供帮助，确保您的系统稳定运行。